去离子水设备主要生产工艺
去离子水的工艺大致可分为四种：
一种：采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水，一般通过之后，出水电导率可降到10us/cm以下，再经过混床就可以达到1us/cm以下了。但是这种方法做出来的水成本极高，而且颗粒杂质太多，达不到理想的要求。用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏性。目前已较少采用了。
第二种：预处理（即砂碳过滤器+精密过滤器）+反渗透+混床工艺，这种方法是目前采用最多的，因为反渗透投资成本也不算高，可以去除90%已上的水中离子，剩下的离子再通过混床交换除去，这样可使出水电导率：0.06左右。这样是目前最流行的方法。
第三种：采用两级反渗透方式，其流程如下： 自来水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→混合器→二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点 ，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但无须树脂再生。其缺点在于相关膜原件需定期清洗或更换，水质相对来说不是太高，大都只能做到1us/cm左右，所以在不质要求更高的时候常采用一级反渗透后面再用混床（阴阳复床）把关。
第四种：前处理与第二种方法一样使用反渗透，只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替，这样就不用酸碱再生树脂，纯水机，而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了，经过处理后的水质可达到：15M以上。但这这种方法的前期投资比较多，运行成本低。根据各公司的情况做适当的投资。
其流程如下： 原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点 ，这是目前制取超纯水的超纯水制备工艺，维修纯水机，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，再生纯水机，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。
半导体清洗用超纯水设备的工作原理一、半导体清洗用超纯水设备概述
半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术，保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质，抗腐蚀能力强，同时也不会出现生锈问题，质量可靠，受到用户的一致好评。
二、半导体清洗用超纯水设备工作原理
EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，维修保养纯水机，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。
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