半导体清洗用超纯水设备的工作原理一、半导体清洗用超纯水设备概述
半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术，保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质，抗腐蚀能力强，同时也不会出现生锈问题，质量可靠，受到用户的一致好评。
二、半导体清洗用超纯水设备工作原理
EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。
软水的形成有两种途径：一种是天然的软水：雨水、雪水、露水等都是天然无污染的软水。另一种就是通过软化水设备的处理，惠州纯水机维修，把原水中的钙、镁离子等致硬离子通过阳树脂的吸附过滤出来，再通过再生树脂成为软化水，如果是国家认可的饮用软化水工厂，通过这种水处理设备以后的软水就能直接饮用，而工厂里使用的软化水就能减少水垢的形成，延长机器的使用寿命。
这种软化水设备能广泛的应用于锅炉供水、供热空调系统补充水、洗衣、食品加工等各领域。全自动锅炉软化水设备比手动的更加先进，是国内先进的软化水处理设备，纯水机，主要适用于工业、生活锅炉的软化水处理。创新软化水设备保存了原本水设备的优点，在此之上改为全自动只能控制，克服了老机器的水质不稳、盐耗多、过滤不净以及维修率高等不足。各项技术性能跟以往其他的同类产品相比都有了很大的提高。是通利达设备的一次技术性进步，并且全新的设备是一体机，江西纯净水备，占地面积小，设备重量轻、结构紧凑，设计合理，而且这款全自动的不需要其他备用设备的辅助，高纯水机设备，全程自己就能完成。安装快捷，自动性强，能够24小时不间断产水，更加稳定可靠、简单实用、高效节能，减少环境污染，为企业节约成本，节省劳动力，为客户提供优质服务。
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