半导体清洗用超纯水设备的工作原理一、半导体清洗用超纯水设备概述
半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术，保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质，抗腐蚀能力强，纯水机，同时也不会出现生锈问题，质量可靠，edi纯水机，受到用户的一致好评。
二、半导体清洗用超纯水设备工作原理
EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。
问：怎样保证纯净水设备的净水效果？
答：水处理行业的迅速发展使得环保事业迅速发展，近年来以纯净水设备为主导的水处理市场发生了翻天覆地的变化，那么怎样使纯净水设备净水效果达到佳呢?纯净水设备本身的性能直接影响着工作效率情况，提高效率的前提是使设备各项技能衔接更融洽，反渗透作为净水的工作科学，RO膜的通透性是设备的总根源。那么采取以下措施来进行改善。
1、使用时间久了膜会滋生一些有机污染，特别是对蛋白质，油类等有机物。采用加酶洗涤剂在低压下对膜进行一次清洗，由于所用加酶洗涤剂浓度较低，江西纯水机，所以要求浸渍时间长一些。
2、采用双氧水溶液清洗膜表面，这种方法对有机物污染特别有效。
3、水溶性乳化液清洗被油和氧化铁污染的膜一般清洗30-60分钟。
只有做好对膜的保护工作，清洗工作以及日常对膜的保养工作。才能使得膜的通透性更高，反渗透技术运用的更灵活，整个纯净水设备的净水工作效率更高。
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