半导体清洗用超纯水设备的工作原理一、半导体清洗用超纯水设备概述
半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业，该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术，保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质，抗腐蚀能力强，同时也不会出现生锈问题，质量可靠，受到用户的一致好评。
二、半导体清洗用超纯水设备工作原理
EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开，形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下，通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统，成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃)，但是根据去离子水用途和系统配置设置，广东纯水机，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。
问：纯水设备前过滤装置有什么作用以及纯水设备的过滤有哪些?
答：
一、纯水设备前过滤装置的作用是去除水中粒径较大的悬浮杂质，纯水机，避免这些杂质进入活性碳过滤装置，覆盖活性碳表面，惠州纯水机，使活性碳的毛细孔结构失去吸附水中杂质的能力。
二、纯水设备的过滤
1.净水:利用净水技术除去水中大量的有机成分、重金属离子、有害杂质及细菌，并保留对人体有益的微量元素.清澈、甘甜、富氧可直接饮用，称为净水。
2.纯水:利用反渗透技术除去了水中有机成分、无机成分、重金属离子、有害杂质及细菌以及矿物质，超纯水纯水机，可直接饮用，称为纯水。
3.活性炭是一种微孔发达的碳化合物，有极其丰富的空隙结构(每克达1000平方米)，因而具有极强的吸附性能，是水处理运用最普遍的净水材料之一.能够去除水中的异色、异味、有机物、余氯，改善水的口感。
4.微滤：过滤精度是一般在0.03-15微米，是一种以静压为推动力，利用网状过滤介质的筛介质的筛分作用进行分离的膜过程，微滤膜具有比较整齐、均匀的多孔结构，在静压差作用下，小于膜孔的粒子通过膜，比膜孔大的粒子被截留在膜表面，使大小不同的组分得以分离。
5.常见的各种PP滤芯，陶瓷滤芯等都属于微滤范畴，能过滤水中的泥沙、铁锈等大颗粒杂质。
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