半导体清洗用超纯水设备制备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺) 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。
集成电路生产中高纯水清洗硅片。
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。
高品质显像管、萤光粉生产。 汽车、家电表面抛光处
电镀超纯水设备工艺技术及应用分析2016-04-29 15:02浏览数:109次
电镀超纯水设备现用于电镀涂装行业中，广东纯水机，目的是为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀涂装行业对于所用的水质要求较高。电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水，纯水机，另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下纯水来清洗，电镀行业水处理系统包括电镀前电镀液配制需要的纯水处理系统、电镀漂洗废水中稀有金属回收漂洗水循环利用废水零排放系统。通常系统由超滤装置，工业纯水机，反渗透装置，离子交换装置，EDI装置等组合而成，以满足电镀行业对水质的要求。
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
。
纯水机设备|纯水机|宇洁(查看)由惠州市宇洁科技有限公司提供。惠州市宇洁科技有限公司（hz-yujie.com）是广东 惠州 ,清洗、清理设备的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，很大限度的满足客户需求。在宇洁领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创宇洁更加美好的未来。