清洗工序和清洗装置
清洗工序的设定要根据污染的类型，污染程度，钢化玻璃清洗剂，处理批量来决定，譬如，眼镜片的清洗一般要10个工序。在使用水系清洗剂时，最基本的工序制定如下：
超声波清洗(水系清洗剂)→超声波清洗(纯水、自来水)→脱水 (干燥)
干燥处理对清洗物的清洗性优劣非常重要，常见的干燥方法有热风干燥、透风干燥、真空干燥、离心脱水干燥、IPA提升干燥等，可按照生产批量、本钱、产品精度、被洗物外形等加以选择。
产业用超声波清洗机多为单槽或双槽式、自动清洗形式的清洗机也有多槽形式。近年来，半导体行业用的清洗方式大多采用带950KHZ超声槽的单枚式“US喷淋”高频清洗，可得到高性能的清洗结果，“US喷淋”的方式是将载有950KHZ超声波所形成的水帷幕，用于液晶玻璃、电路芯片的超精密清洗，尘粒子可接近“零”的程度。
今后不同产品的湿式清洗，广东清洗剂，如需100％地发挥清洗剂的性能作用，清洗剂，对超声
此种清洗工艺同溶剂清洗相比的区别在于，其前两个清洗单元：有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果，但却无法清洗研磨粉等无机物；半水基清洗剂则不同，不但可以清洗沥青等有机污染物，还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果，从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度
慢，气味小。采用半水基清洗剂清洗的设备在
一个清洗单元中无需密封冷凝和蒸馏回收装置。但由于半水基清洗剂粘度大，并且对后续工序使用的水基清洗剂有乳化作用，所以第二个单元须市水漂洗，并且将其设为流水漂洗。国内应用此种工艺的企业未几，其中一个原因是半水基清洗剂多为进口，价格比较昂贵。
从水基清洗单元开始，半水基清洗工艺同溶剂清洗工艺基本相同。在此不再赘述。（3）两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法，其优点是清洗速度快，效率比较高，溶剂本身可以不断蒸馏再生，循环使用；但缺点也比较明显，由于光学玻璃的生产环境要求恒温恒湿，均为封闭车间，溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响，尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。半水基清洗是近年来逐渐发展成熟的一种新工艺，它是在传统溶剂清洗的基础上进行改进而得来的。它有效地避免了溶剂的一些弱点，可以做到无毒，气味稍微，废液可排进污水处理系统；设备上的配套装置更少；使用周期比溶剂要更长；在运行本钱上比溶剂更低。半水基清洗剂最为突出的一个优点就是对于研磨粉等无机污染物具有良好的清洗效果，极大地缓解了后续单元水基清洗剂的清洗压力，延长了水基清洗剂的使用寿命，减少了水基清洗剂的用量，降低了运行本钱。它的缺点就是清洗的速度比溶剂稍慢，并且必须要进行漂洗。
玻璃镀膜前超声波清洗
1、 研磨后的清洗研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。其中研磨粉的型号各异，手机玻璃清洗剂，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。研磨后的清洗设备大致分为两种：一种主要使用有机溶剂清洗剂，另一种主要使用半水基清洗剂。
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