因为目前物理清洗的局限性，化学清洗技术仍然得到广泛的应用。目前世界上工业清洗已由传统的溶剂清洗、水洗和表面活性剂清洗方式，发展到精细清洗和绿色清洗阶段。
绿色化学要求对环境的影响尽可能小，在应用工业化学清洗技术中，工程技术人员应根据绿色化学原则，硅油清洗剂，选择采用无毒、无害的原料，考虑使用对环境污染小的原材料取代强酸、强碱、有机溶剂等对环境污染很大的原材料，力争实现“零排放”。同时，在清洗过程中产生的清洗废液中含有的有毒、有害物质，必须经过处理达到国家有关排放标准方可排放。
物理清洗技术以污染小、操作灵活、无腐蚀等优点将逐渐取代化学清洗并成为工业清洗的主流，物理清洗技术的研究和应用将更受关注，物理清洗的应用领域越来越宽。物理清洗的发展经历了由人工捅刷到PIG清洗、射流清洗，再到多元化、集成化三个阶段。
在物理清洗中，水射流清洗仍占主导地位，并呈加快发展态势;PIG清洗也将加快速度发展;脉冲清洗将得到快速推广应用。
随着技术的进步，干冰清洗、超声波清洗等物理清洗技术将广泛应用于工业设备的清洗当中。所以推动工业清洗剂的发展中，技术优势将占主要地位。
此种清洗工艺同溶剂清洗相比的区别在于，其前两个清洗单元：有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果，但却无法清洗研磨粉等无机物；半水基清洗剂则不同，不但可以清洗沥青等有机污染物，还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果，从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度
慢，气味小。采用半水基清洗剂清洗的设备在
一个清洗单元中无需密封冷凝和蒸馏回收装置。但由于半水基清洗剂粘度大，并且对后续工序使用的水基清洗剂有乳化作用，所以第二个单元须市水漂洗，并且将其设为流水漂洗。国内应用此种工艺的企业未几，其中一个原因是半水基清洗剂多为进口，价格比较昂贵。
从水基清洗单元开始，半水基清洗工艺同溶剂清洗工艺基本相同。在此不再赘述。（3）两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法，其优点是清洗速度快，效率比较高，溶剂本身可以不断蒸馏再生，循环使用；但缺点也比较明显，由于光学玻璃的生产环境要求恒温恒湿，均为封闭车间，溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响，尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。半水基清洗是近年来逐渐发展成熟的一种新工艺，它是在传统溶剂清洗的基础上进行改进而得来的。它有效地避免了溶剂的一些弱点，可以做到无毒，气味稍微，废液可排进污水处理系统；设备上的配套装置更少；使用周期比溶剂要更长；在运行本钱上比溶剂更低。半水基清洗剂最为突出的一个优点就是对于研磨粉等无机污染物具有良好的清洗效果，极大地缓解了后续单元水基清洗剂的清洗压力，延长了水基清洗剂的使用寿命，减少了水基清洗剂的用量，降低了运行本钱。它的缺点就是清洗的速度比溶剂稍慢，并且必须要进行漂洗。
惠州市宇洁科技有限公司光学清洗剂是一款高效的电子清洗剂，能快速清洗干净油污，油脂，污垢，顽固污渍及去除静电。主要应用于电子行业的清洗。对电子产品的表面无腐蚀，氧化等现象。 除油速度快，彻底，清洗剂配方，不留痕迹。 溶解性好，安全无毒，清洗剂，高效环保。 使用方便快捷，提高工作效率。
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