半导体清洗用超纯水设备制备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺) 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。
集成电路生产中高纯水清洗硅片。
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。
高品质显像管、萤光粉生产。 汽车、家电表面抛光处
EDI纯水设备和混合离子交换技能的区别 EDI设备是应用在反渗透体系以后，替代传统的混合离子交换技能（MB-DI）出产安稳的去离子水。EDI技能与混合离子交换技能对比有如下长处：
1、占地空间小，省掉了混床和再生设备；
2.产水接连安稳，出水质量高，而混床在树脂接近失效时水质会变差；EDI设备是一个接连清水进程，因此其商品水水质安稳，电阻率一般为15MΩ·cm，高可达18MΩ·cm，纯水设备厂，到达超纯水的指标。混床离子交换设备的清水进程是连续式的，在刚刚被再生后，其商品水水质高，而在下次再生之前，其商品水水质较差。
3.运转费用低，再生只耗电，不用酸碱，节省资料费用；沈阳EDI超纯水设备，大连EDI水处理，长春电子超纯水设备EDI设备运转费用包括电耗、水耗、药剂费及设备折旧等费用，省去了酸碱耗费、再生用水、废水处理和污水排放等费用。
在电耗方面，EDI设备约0.5kWh/t水，混床技术约0.35kWh/t水，电耗的本钱在电厂来说是对比经济的，可以用厂用电的报价核算。
在水耗方面，反渗透纯水设备，EDI设备产水率高，中山纯水设备，不用再生用水，因此在此方面运转费用低于混床。
至于药剂费和设备折旧费两者相差不大。
总的来说，在运转费用中，惯例混床吨水运转本钱高于EDI设备。因此，EDI设备多出资的费用在几年内完全可以收回。
4.环保效益显著，增加了操作的安全性；EDI归于环保型技能，离子交换树脂不需酸、碱化学再生，节省很多酸、碱和清洁用水，大大降低了劳动强度。更主要的是无废酸、废碱液排放，归于非化学式的水处理体系，它无需酸、碱的储存、处理及无废水的排放，因此它对新用户具有格外的吸引力。
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