宇洁(图),工业纯水设备,珠海纯水设备

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宇洁(图),工业纯水设备,珠海纯水设备

纯化水电导率过高原因分析及解决办法1、一般情况下,电导率高是指整个水处理系统与初始状态一致,超纯水设备,没有发生变化。这时候引起电导率高的原因是反渗透膜组件老化导致脱盐率下降,正确处理方法是更换反渗透主机的反渗透膜,通常更换频率(周期...


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纯化水电导率过高原因分析及解决办法1、一般情况下,电导率高是指整个水处理系统与初始状态一致,超纯水设备,没有发生变化。这时候引起电导率高的原因是反渗透膜组件老化导致脱盐率下降,正确处理方法是更换反渗透主机的反渗透膜,通常更换频率(周期)是2-3年一次。

 2、其他情况:

a、设备正常运行电导率突然升高,珠海纯水设备,排水量增大。这种情况是由于反渗透膜组件连接密封圈泄露造成的电导率急剧升高,建议更换密封圈。具体方法是检测每个膜组件的水质情况,找出泄露的部分更换。

b、设备在开机的时候二级电导升高很难降下来或者是降的时间太长,这种情况一般在双级反渗透中常见,在一级和二级中间一般有加氢氧化钠来调节水中二氧化碳的脱除量的措施,edi 纯水设备,氢氧化钠的添加量与电导率有关系,建议调整添加量。

c、设备在运行一段时间后产水量没变化,电导率升高,排水量增大。说明膜被氧化性介质降解,电导率升高,工业纯水设备,需要更换膜组件。

d、设备预处理的砂碳净化过滤效果减低或失效,没有定期及时反冲洗(进水电导率会相对升高)。e、RO进水的保安滤器脏堵压差大没有及时更换  

3、此外,反渗透设备是个大的系统还有其他的因素,建议您出现问题后,留下日常的操作记录,联系生产厂家分析问题。设备生产厂家对设备系统熟悉,可以快速的找出问题。


半导体清洗用超纯水设备制备工艺

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺) 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域  

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。  

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。  

集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。  

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。  

高品质显像管、萤光粉生产。   汽车、家电表面抛光处


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