中山纯水设备,宇洁,超纯水设备

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脱盐水工艺处理2016-05-24 19:25浏览数:103次  脱盐水处理工艺,纯水设备厂家,又称纯水处理工艺或深度脱盐水,一般系指将水中易于去除的强导电质去除又将水中难以去除的硅酸及二氧化碳等弱电解质去除至一定程度的水。脱盐水处理...


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脱盐水工艺处理2016-05-24 19:25浏览数:103次

  脱盐水处理工艺,纯水设备厂家,又称纯水处理工艺或深度脱盐水,一般系指将水中易于去除的强导电质去除又将水中难以去除的硅酸及二氧化碳等弱电解质去除至一定程度的水。脱盐水处理工艺很多,主要有电渗析法、离子交换法、反渗透法、EDI法等目前市场上的石化行业脱盐水处理系统中,中山纯水设备,已成熟的几种工艺都存在着这样或那样的缺点,企业如果选择了不利于本地水质或不利于本厂实际情况的处理方案,就会造成不可弥补的损失。


半导体清洗用超纯水设备的工作原理一、半导体清洗用超纯水设备概述

        半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业,该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术,保证设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质,抗腐蚀能力强,超纯水设备,同时也不会出现生锈问题,质量可靠,高纯水设备,受到用户的一致好评。  

二、半导体清洗用超纯水设备工作原理

       EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。



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