半导体清洗用超纯水设备制备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺) 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。
集成电路生产中高纯水清洗硅片。
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。
高品质显像管、萤光粉生产。 汽车、家电表面抛光处
脱盐水处理工艺简单介绍
1.离子交换工艺
早期人们所熟知的脱盐水处理工艺主要为预处理＋阳床＋阴床＋混床的全离子交换工艺，即传统法处理流程。对于地表水，常规的预处理方法多是多介质过滤＋活性炭过滤，用阳床＋阴床＋混床的全离子交换可确保出水水质稳定达标。长期实践已证明，传统法处理工艺是一种成熟有效的水处理工艺。但传统法因预处理和离子交换工艺的局限，存在着设备占地面积大、系统操作维护频繁复杂、出水水质呈周期性波动的缺陷，广州纯水机，并且需要投加絮凝剂和耗费大量的酸碱，不利于环境保护；同时，离子交换器多为直径较大的罐体，体积大、重量大，不便于运输及安装调试，施工周期长。
2.膜法工艺
膜法工艺是指超滤＋反渗透＋混床除盐（EDI）的脱盐水处理工艺，ro纯水机，该工艺主要采用膜分离技术制取脱盐水。
超滤原理是一种膜分离过程原理，EDI超纯水机，超滤是利用一种压力活性膜，在外界推动力（压力）作用下截留水中胶体、颗粒和分子量相对较高的物质，而水和小的溶质颗粒透过膜的分离过程。通过膜表面的微孔筛选可截留分子量为3×10000～1×10000的物质。当被处理水借助于外界压力的作用以一定的流速通过膜表面时，水分子和分子量小于300～500的溶质透过膜，而大于膜孔的微粒、大分子等由于筛分作用被截留，从而使水得到净化。也就是说，当水通过超滤膜后，可将水中含有的大部分胶体硅除去，同时可去除大量的有机物等。超滤对原水的适应性好，浊度在200以下的地表水均可有效处理，工业纯水机，对于胶体硅的去除率大大高于传统法的多介质和活性炭过滤。超滤的采用大大提升了预处理的效果，可保证其出水SDI值稳定在3以下，增强了对反渗透系统的产水率，膜的使用寿命更可从传统法保证的3年延长到5年。
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