宇洁(多图),EDI超纯水机,纯水机

1、反渗透是在室温条件下，纯水机，采用无相变的物理方法将含盐水进行脱盐、除盐。超薄复合膜元件的脱盐率可达到99.5%以上，并可同时去除水中的胶体、有机物、细菌、病毒等；2、采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，ro纯水机，运行成本低廉；3、采用全自动预处理系统，实现无人化操作；4、采用进口格兰富增压泵，高效率低噪音，稳定可靠；5、在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全；6、全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，EDI超纯水机，使用方便；7、切合当地水质的个性化设计，全方位满足需求；8、设备占地面积小，需要的空间也小；9、反渗透装置自动化程度高，运行维护和设备维护工作量很少；10、水的处理仅依靠水的压力作为推动力，其能耗在许多处理工艺中低；11、不用大量的化学药剂和酸、碱再生处理，无化学废液排放，纯水机价格，无环境污染；12、反渗透可以连续运行制水，系统简单，操作方便，产品水质稳定。

半导体清洗用超纯水设备制备工艺

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺) 5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域  

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。  

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。  

集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。  

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。  

高品质显像管、萤光粉生产。   汽车、家电表面抛光处

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